Elektronikindustrie

Bei der Halbleiterfertigung, der Herstellung von Flüssigkristallanzeigen (LCDs) und anderen Hightech-Elektronikbauteilen müssen Siliziumwafer und Leiterplatten mehrfach gereinigt werden, um Partikel und chemische Rückstände von der Oberfläche zu entfernen. Das mittels Umkehrosmosemembran erzeugte hochreine Wasser gewährleistet die Wasserreinheit während des Reinigungsprozesses und verhindert eine Kontamination der Siliziumwafer. Dadurch werden die Qualität und Leistung der Elektronikbauteile verbessert.